賽默飛 Apreo ChemiSEM場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡是一套面向材料表征和微區(qū)分析應(yīng)用的高性能電子顯微分析平臺(tái)，將場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡的高分辨率成像能力與實(shí)時(shí)化學(xué)成分分析功能相結(jié)合，可在觀察樣品微觀形貌的同時(shí)獲取元素組成和分布信息。

Apreo ChemiSEM采用肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源，電子束加速電壓范圍為200V～30kV，能夠滿足從低電壓表面成像到高束流元素分析等不同實(shí)驗(yàn)需求。Apreo S在15kV條件下分辨率可達(dá)0.5nm，在1kV條件下分辨率可達(dá)0.9nm，適合納米材料、涂層、顆粒、金屬斷口和半導(dǎo)體器件等樣品的精細(xì)觀察。

系統(tǒng)配備自動(dòng)聚焦、自動(dòng)像散校正和智能成像功能，可減少?gòu)?fù)雜參數(shù)調(diào)整帶來的操作難度。SFI智能成像功能能夠根據(jù)樣品和觀察條件自動(dòng)優(yōu)化圖像質(zhì)量，提高不同操作人員之間的分析一致性。

通過TrueSight Pro能譜分析系統(tǒng)，設(shè)備可以在電子顯微成像過程中實(shí)時(shí)顯示元素組成和元素面分布，幫助用戶快速定位感興趣區(qū)域。系統(tǒng)還可選配TruePix電子背散射衍射系統(tǒng)，用于晶粒尺寸、晶體取向、物相分布及織構(gòu)分析。

Apreo ChemiSEM支持Trinity探測(cè)系統(tǒng)、MAPS自動(dòng)化大面積成像及CleanConnect樣品轉(zhuǎn)移方案。部分配置支持10～500Pa低真空觀察及-4000V至+600V樣品臺(tái)偏壓，可改善不導(dǎo)電樣品、束流敏感樣品和表面細(xì)節(jié)的觀察效果。

主要應(yīng)用包括金屬與合金分析、陶瓷和復(fù)合材料研究、鋰電池材料檢測(cè)、催化劑表征、半導(dǎo)體失效分析、地質(zhì)礦物分析、涂層檢測(cè)、顆粒分析及生命科學(xué)樣品觀察。實(shí)際探測(cè)器、能譜、EBSD和真空配置可根據(jù)具體應(yīng)用要求選擇。

Apreo ChemiSEM場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡