賽默飛雙聚焦輝光放電質(zhì)譜儀結(jié)合了輝光放電離子源和雙聚焦高分辨率質(zhì)量分析器，可以定性定量分析固體樣品中包括C、N、O在內(nèi)的幾乎所有元素，是直接、快速分析高純樣品雜志含量和鍍層材料元素組成的工具。

賽默飛雙聚焦輝光放電質(zhì)譜儀集中了輝光放電和高分辨質(zhì)譜的優(yōu)勢，在以下方面有杰出表現(xiàn)：

1、樣品測試通量高：ELEMENT GD離子源和樣品夾的設(shè)計使可縮短換樣和分析時間，顯著提高生產(chǎn)率；

2、檢測器線性范圍寬：檢測器線性范圍達12個數(shù)量級，可一次掃描同時檢測基體和痕量元素組成；

3、具有固定寬度的低、中、高分辨率狹縫，采用高分辨率可直接分析有質(zhì)譜干擾的同位素。

1、微秒級脈沖、高流速、大功率

相較靜態(tài) GD，該獨特技術(shù)具有出色的靈敏度和較低的多原子干擾，穩(wěn)定性、準確度并能縮短分析時間，在金屬和合金檢測方面的準確度為 ±30%（無需校準）。

2、雙聚焦質(zhì)譜儀

高離子傳輸率結(jié)合低背景噪聲， 鑄就了的信噪比和低至亞 ppb 級的檢出限。高質(zhì)量分辨率實現(xiàn)性和準確度。

3、十二數(shù)量級的自動檢測系統(tǒng)

>擁有 12 個數(shù)量級線性動態(tài)范圍的全自動檢測器可在一次掃描中同時測定基體和超痕量元素。

4、高效易用的先進軟件包

所有參數(shù)均由計算機控制，可實現(xiàn)全自動分析、數(shù)據(jù)評估以及與自動數(shù)據(jù)傳輸?shù)?LIMS 連接性。